Resultats de la cerca

Salta a la navegació Salta a la cerca
Mostra (anteriors 20 | ) (20 | 50 | 100 | 250 | 500)

Coincidències de títol de la pàgina

  • ...[[Impressió 3D|Impressió en 3D]] amb punta [[Llapis|de llapis]] mitjançant litografia multifotònica. Foto de Peter Gruber]] '''La litografia multifotònica''' (també coneguda com a '''litografia làser directa''' o '''escriptura làser directa''') de plantilles de [[Polím ...
    6 Ko (868 paraules) - 21:39, 31 gen 2025
  • ...per a condicions d'imatge ideals, similars a les que s'utilitzen per a la litografia d'interferència.]] '''La litografia d'interferència''' (o '''litografia hologràfica''') és una tècnica per modelar matrius regulars de característi ...
    4 Ko (665 paraules) - 00:06, 10 abr 2023
  • ..._effect.jpeg|miniatura|353x353px|Il·lustració de l'efecte de proximitat en litografia de nanoempremta. A dalt: la matriu de depressions s'omple més ràpidament a L{{'}}'''efecte de proximitat''' en [[Litografia amb feix d'electrons|la litografia de feix d'electrons]] (EBL) és el fenomen amb la distribució de la dosi d'e ...
    5 Ko (705 paraules) - 00:02, 28 feb 2025

Coincidències de text de pàgina

  • ...per a condicions d'imatge ideals, similars a les que s'utilitzen per a la litografia d'interferència.]] '''La litografia d'interferència''' (o '''litografia hologràfica''') és una tècnica per modelar matrius regulars de característi ...
    4 Ko (665 paraules) - 00:06, 10 abr 2023
  • ..._effect.jpeg|miniatura|353x353px|Il·lustració de l'efecte de proximitat en litografia de nanoempremta. A dalt: la matriu de depressions s'omple més ràpidament a L{{'}}'''efecte de proximitat''' en [[Litografia amb feix d'electrons|la litografia de feix d'electrons]] (EBL) és el fenomen amb la distribució de la dosi d'e ...
    5 Ko (705 paraules) - 00:02, 28 feb 2025
  • ...[[Impressió 3D|Impressió en 3D]] amb punta [[Llapis|de llapis]] mitjançant litografia multifotònica. Foto de Peter Gruber]] '''La litografia multifotònica''' (també coneguda com a '''litografia làser directa''' o '''escriptura làser directa''') de plantilles de [[Polím ...
    6 Ko (868 paraules) - 21:39, 31 gen 2025
  • ...porta dels transistors (180 nm) era més curta que la llum utilitzada en la litografia (193 nm). Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada. ...
    4 Ko (518 paraules) - 21:06, 8 nov 2024
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada. ...
    2 Ko (263 paraules) - 08:58, 4 nov 2024
  • Els transistors d'aquesta litografia estan preparats per dispositius que necessiten processadors de baix consum * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada : per feix d'electrons, d'immersió, ''[[multiple patterning]]'' ...
    6 Ko (855 paraules) - 18:53, 24 feb 2025
  • ...traviolada extrema (electrònica)|Fotolitografia ultraviolada extrema]] i [[litografia d'immersió]]. ...uanyat per watt, ús de [[Fotolitografia ultraviolada extrema (electrònica)|litografia EUV]] i millora de potència i àrea.<ref>{{Ref-web|url=https://www.forbes.co ...
    11 Ko (1.456 paraules) - 07:57, 25 feb 2025
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada. ...
    4 Ko (524 paraules) - 16:44, 19 des 2024
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada amb [[Ultraviolat|llum ultraviolada]] i ''[[multiple patterning ...
    4 Ko (530 paraules) - 18:43, 24 feb 2025
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada. ...
    4 Ko (535 paraules) - 08:39, 9 nov 2024
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada. ...
    4 Ko (555 paraules) - 17:10, 4 nov 2024
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada. ...
    4 Ko (581 paraules) - 13:45, 30 juny 2023
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada. ...
    4 Ko (545 paraules) - 08:27, 9 nov 2024
  • * Litografia amb llum de major freqüència<ref>{{Ref-web|url=http://www.lithoguru.com/sci ...
    4 Ko (563 paraules) - 22:06, 16 des 2023
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada amb [[Ultraviolat|llum ultraviolada]] i ''[[multiple patterning ...
    5 Ko (617 paraules) - 18:48, 24 feb 2025
  • ...ulsion Laboratory|JPL]], que els va introduir com a base del concepte de [[litografia quàntica]].<ref name="BotoKok2000">{{Ref-publicació|cognom=Boto|nom=Agedi N ...
    4 Ko (644 paraules) - 15:28, 27 juny 2024
  • * Tecnologia de [[Màscara fotogràfica|litografia]] millorada amb [[Ultraviolat|llum ultraviolada]] i ''[[multiple patterning ...
    5 Ko (718 paraules) - 18:46, 24 feb 2025
  • ...oduir. Les superfícies OEW són fàcils de fabricar, ja que no requereixen [[litografia]] i tenen un control de manipulació reconfigurable a gran escala en temps r ...
    6 Ko (972 paraules) - 00:03, 24 ago 2023
  • ...all font alternativament en dos angles a través de la màscara definida per litografia a la resistència del feix d'electrons. Això dona lloc a dues capes superpos ...
    13 Ko (1.950 paraules) - 13:46, 9 gen 2025
  • ...són candidats per a ser usats en tecnologies d'alta resolució (és a dir, [[litografia]]) i microscòpia, a causa de les seves reduïdes longituds d'ona. Les dues a ...
    8 Ko (1.187 paraules) - 12:58, 2 nov 2024
Mostra (anteriors 20 | ) (20 | 50 | 100 | 250 | 500)