Fitxer:Leiterbahn ausfallort elektromigration.jpg
Salta a la navegació
Salta a la cerca
No hi ha cap versió amb una resolució més gran.
Leiterbahn_ausfallort_elektromigration.jpg (512 × 512 píxels, mida del fitxer: 65 Ko, tipus MIME: image/jpeg)
| Descripció |
Deutsch: Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Plasmaätzen (RIE) und w:de:Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das bestmögliche Resultat zu erlangen.
|
| Font | Mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen |
| Autor | Patrick-Emil Zörner |
| Altres versions | keine bekannt! |
|
S'autoritza la còpia, la distribució i la modificació d'aquest document sota els termes de la llicència de documentació lliure GNU versió 1.2 o qualsevol altra versió posterior que publiqui la Free Software Foundation; sense seccions invariants, ni textos de portada, ni textos de contraportada. S'inclou una còpia d'aquesta llicència en la secció titulada GNU Free Documentation License. |
  
|
Aquest fitxer està subjecte a la llicència Creative Commons Reconeixement-CompartirIgual 3.0 No adaptada. | |
| ||
| Aquest avís de llicència s'ha afegit a aquest fitxer d'acord amb l'actualització de la llicència GFDL. |
Aquest fitxer està publicat sota la llicència de Creative Commons Reconeixement i Compartir Igual 2.0 Alemanya.
- Sou lliure de:
- compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
- adaptar – fer-ne obres derivades
- Amb les condicions següents:
- reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
- compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o creeu a partir del material, heu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible amb l'original.
}
Original authors
This image was moved to Commons by de:User:Luxo (here: Luxo) with the tool CommonismNow.
- Source: de.wikipedia.org
- Image contributor(s): Paddy
- 2004-03-03T00:01:48Z UTC Paddy 512x512 (66389 bytes)
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
| Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 18:24, 6 març 2007 | | 512 × 512 (65 Ko) | wikimediacommons>CommonismNow | {{Information| |Description=Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Reactive Ion Etching (RIE) und [[w:de:Fluorwasserst |
Ús del fitxer
La pàgina següent utilitza aquest fitxer:
